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用于 X 射线辐照成像的 Cs2SnCl6:Te 柔性闪烁屏技术
型:应用
业:稀土行业
度:初创成果
方: 稀金新材料研究院
地:江西/赣州
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成果摘要
1.技术介绍:用于 X 射线辐照成像的 Cs2SnCl6:Te 柔性闪烁屏技术 2.团队介绍:材料科学与工程学院、稀金新材料研究院韩修训团队
成果介绍

【技术介绍】

目前广泛使用的商业闪烁体多为硅酸盐单晶与卤化物闪烁体,制备 成本高、周期长、尺寸小。团队基于简单的化学制备工艺,设计合成了 高性能 Cs2SnCl6:Te 闪烁体粉末。该材料具有较高的光量子效率,能够高 效吸收 X 射线能量并以可见光子的形式发射;结合柔性聚合物基质,研 制出了具有高分辨 X 射线成像性能的柔性闪烁屏。

【技术指标】

该技术以 Cs2SnCl6:Te 与聚合物单体作为前驱体浆料,适用于旋涂 及刮涂工艺,易于实现大尺寸、批量化制备。所制备的薄膜成像分辨 率高(20lp/mm ) 、检测限低(132 nGy air/s) 。相比于传统平板探测 器,使用柔性闪烁体薄膜能够达到紧密贴合,实现高对比度成像,尤 其适用于对管道、锅炉、高压气体钢瓶焊缝等复杂形状工件进行高质 量的辐照成像。

【技术成熟度】

已完成小试。

应用情况

X射线成像在安检、探伤、生物体及人体成像领域广泛应用。该成 果所可用于微电子器件、生物组织及精密复杂工件在低射线辐照度下的 清晰成像。


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